特許詳細

課題

掘削溝の構造に関係なく、土被り層の薄い浅い溝であっても、確実に地中構造物の浮上抵抗力を向上させる。

解決手段

第1の工程で、素堀 溝3を形成し、第2の工程で、素堀溝3の底面5上にパイプライン2を配置し、このパイプライン2と素堀溝壁面3A、3Bとの間に土嚢6を配置する。第3の 工程で、ジオテキスタイル10の溝幅方向両端を余らせてパイプライン2と支持地盤Cと土嚢6の内側面とに沿ってジオテキスタイル10を被せる。第4の工程 で、埋め戻し材7を投入し、土嚢6の積み上げと埋め戻し材7の投入を繰り返し、埋め戻し材7を所定の高さL1まで投入する。第5の工程で、ジオテキスタイ ル10の両端余り部10B、10Cを開いて接続し、ジオテキスタイル10で囲まれた埋め戻し材7を包み込む。第6の工程で、ジオテキスタイル10上に埋め 戻し材7が埋め戻され、素堀溝3は埋め戻しされる。