特許詳細

ジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法

課題

掘削溝の構造に関係なく、土被り層の薄い浅い溝であっても、確実に地中構造物の浮上抵抗力を向上させる。

解決手段

第1の工程で、素掘溝3を形成し、第2の工程で、素掘溝3の底面5上にパイプライン2を配置し、このパイプライン2と素掘溝壁面3A、3Bとの間に土嚢6を配置する。第3の工程で、ジオテキスタイル10の溝幅方向両端を余らせてパイプライン2と支持地盤Cと土嚢6の内側面とに沿ってジオテキスタイル10を被せる。第4の工程で、埋め戻し材7を投入し、土嚢6の積み上げと埋め戻し材7の投入を繰り返し、埋め戻し材7を所定の高さL1まで投入する。第5の工程で、ジオテキスタイル10の両端余り部10B,10Cを開いて接続し、ジオテキスタイル10で囲まれた埋め戻し材7を包み込む。第6の工程で、ジオテキスタイル10上に埋め戻し材7が埋め戻され、素掘溝3は埋め戻しされる。

出願日 出願番号 公開日 公開番号 登録日 登録番号
2007年3月14日 2007-065629 2007年7月 5日 2007-170678 2011年8月19日 4803497
出願人
機構内発明者
毛利栄征