農業環境技術研究所は10月29日から30日まで、つくば国際会議場(茨城県つくば市)において、MARCO サテライトシンポジウム 2012 「モンスーンアジアにおける食品中ヒ素およびカドミウム汚染に対するリスク低減技術」( MARCO Satellite International Symposium 2012: Risk Alleviation Technologies for Arsenic and Cadmium Contamination of Foods in Monsoon Asia ) を開催します。
開催趣旨
経済発展が著しいアジア諸国では工業化の進展に伴い、工場等から排出されるヒ素(As)やカドミウム(Cd)などの有害元素による農耕地土壌の汚染が報告されています。この10年ほどで汚染はますます深刻化し、汚染された土壌で栽培した作物における有害元素の残留(集積)による人の健康被害が懸念されています。一方、国際食品規格を策定するコーデックス委員会において各種作物中の Cd 含量基準が決定され、As に関しても国際的な基準値の検討が開始されています。このため、As や Cd の主要な摂取源であるコメを中心に、生産段階における As や Cd 濃度の低減対策の重要性は非常に高く、農地の浄化および農作物の吸収抑制技術の開発が急がれています。
本シンポジウムは、(1)アジア各国における有害元素汚染の現状把握、(2)As および Cd 汚染に対する最先端の対策技術に関する情報交換、(3)将来にむけた協力関係の構築に関する討議を目的とします。
なお、このシンポジウムは、(独)農業環境技術研究所が主催する MARCO シンポジウム 2012 のサテライトシンポジウムとして開催します。
日時: 2012年10月29日(月曜日) 〜 30日(火曜日)
場所: つくば国際会議場(エポカルつくば)(茨城県つくば市竹園2−20−3)
主催: 独立行政法人 農業環境技術研究所 (NIAES)
後援: 農林水産省農林水産技術会議事務局(予定)
参加: 無料
事前の参加登録は終了しました。
会場での参加登録もお受けしますので、未登録の方は会場受付にお知らせください。
使用言語: 英語
プログラム
(1)口頭発表
10月29日(月曜日) 9:00 — 17:00
10月30日(火曜日) 9:00 — 12:00
201号室
□ 基調講演
イネ栽培における有害元素の動態とリスク低減(Nanthi Sirangie Bolan,南オーストラリア大学)
□ アジア諸国からの招待講演
インドネシアにおけるイネの Cd 汚染とリスク低減(Asep Kurnia, インドネシア農業環境研究所)
水稲根表面における鉄集積が As 吸収に及ぼす影響(Dar-Yuan Lee, 台湾大学)
天然廃棄物を用いたイネのヒ素吸収低減技術(Deok Hyun Moon, 韓国・朝鮮大学校)
機能性化合物を用いたヒ素汚染の低減(Fushen Zhang, 中国科学院生態環境科学研究センター)
中国におけるイネの Cd 汚染と対策(Longhua Wu, 中国科学院南京土壌研究所)
タイにおけるイネの As 汚染とリスク低減(Orathai Sukreeyapongse, タイ土地開発局)
ベトナムにおけるファイトレメディエーションによる As 汚染土壌の浄化(Thuan Trung Nguyen, ベトナム環境管理)
バイオ炭による土壌改良 −作物生産に向けた金属汚染リスクの軽減−(Yong Sik Ok, 韓国・江原大学)
□ 日本における対策技術の現状
カドミウムおよびヒ素汚染農用地土壌の管理に関する日本の政策と国際動向(浜谷直史 農林水産省消費・安全局)
ゼロ価鉄資材を添加した水田土壌中のCdの化学状態と不溶化(橋本洋平 東京農工大学)
水管理とアルカリ資材の施用が水稲のヒ素・カドミウム吸収に及ぼす影響(本間利光 新潟県農業総合研究所)
苦土石灰のうね内部分施用によるダイズ子実のカドミウム濃度の低減(三浦憲蔵 農研機構・東北農業研究センター)
気相率による水田土壌中のヒ素およびカドミウム濃度の支配(中村 乾 農業環境技術研究所)
水田土壌におけるメチルヒ素合成を行う根圏細菌の分離と同定−玄米におけるヒ素の化学形態との関連性について−(倉俣正人 農業環境技術研究所)
イオンビーム照射によって作出したカドミウム極低変異体の特徴(石川 覚 農業環境技術研究所)
カドミウム高吸収イネを用いた植物浄化システム(茨木俊行 福岡県農業総合試験場)
塩化鉄(V)を用いた土壌洗浄法によるカドミウム汚染土壌の浄化(牧野知之 農業環境技術研究所)
(2)ポスター発表
10月29日(月曜日) 12:00 — 13:30 (ポスター発表用パネルのサイズ: 幅 90cm × 高さ 210cm)
202号室